일반뉴스 UNIST 연구팀, 나선 형태 그래핀 흡착층 형성 원리 규명해
그래핀 용도에 맞게 두께 조절할 수 있는 합성법 단서...Adv. Mater. 게재 UNST 신소재공학과 펑 딩·이종훈 교수 연구팀(이상 IBS 다차원탄소재료 연구단)이 나선 은하 모양으로 합성된 그래핀 흡착층을 최초로 발견하고 이를 새로운 이론으로 규명해 냈다고 29일 밝혔다. 흡착층(adlayer)은 그래핀 층 아래에 덧대어 생기는 또 다른 그래핀 층이다. 이번 연구는 용도에 맞게 그래핀 층수를 조절할 수 있는 합성법 개발에 단서가 될 전망이다. 그래핀은 탄소 원자 한 개 두께의 2차원 물질로 알려져 있지만 실제 합성된 그래핀은 탄소 원자가 여러 층으로 쌓인 형태가 많다. 층수에 따라 특성도 다르다. 두 겹 그래핀으로는 끄고 켤 수 있는 반도체 소자를 만들 수 있지만 한 겹은 불가능하다. 대신 전하이동도가 두 겹 그래핀보다 뛰어나다. 용도에 맞게 그래핀을 층수별로 합성할 수 있는 기술 개발이 중요한 이유다. 딩 교수 연구팀은 기존의 확률 기반 모델링(kinetic Monte Carlo simulation) 등을 개량해 그래핀이 나선 형태로 합성될 수 있었던 원인을 분석해 냈다. 그래핀은 물론이고 다른 물질에서도 이러한 나선형 구조가 발견된 적이 없어 기존